Obducat AB
Obducat erhält weiteres Patent für die USA
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Obducat erhält weiteres Patent für die USA
Malmö, 16. August 2006 – Obducat AB, Entwickler und Anbieter von
Technologien zur Herstellung und Reproduktion von Nanostrukturen anhand der
sog. Nano Imprint Lithography NIL, erhält weiteres grundlegendes Patent für
seine Antihaft-Technologie. Diese Technologie stellt einen wichtigen
Bestandteil der NIL-Technologie dar, welche die Massenproduktion von
Strukturen im Nanobereich ermöglicht.
Obducats patentierte Antihaft-Technologie ist Teil von Obducats
Massenfertigungs-Lösungen (High Volume Manufacturing HVM) die auf der
NIL-Technologie beruhen. Die Antihaft-Ausrüstung der Nanostempel ermöglicht
einen Hochgeschwindigkeits-Entformungsprozess und gewährleistet eine
längere Haltbarkeit des Stempels. Diese Eigenschaften sind Voraussetzung
für die Hohe Qualität der Obducat Produktionslösungen.
Des Weiteren begründet die Antihaft-Ausrüstung einen Kostenvorteil
gegenüber den herkömmlichen Verfahren, u.a. aufgrund der längeren
Lebensdauer und Einsetzbarkeit des Stempels speziell bei
Hochtemperatur-Anwendungen.
Weitere Informationen:
Patrik Lundström, CEO, +46 (40) 36 21 00 oder +46 (703) 27 37 38
Henri Bergstrand, Chairman of the Board, +46 (40) 36 21 00 oder +46 (708)
88 72 45
Obducat AB is an innovative developer and supplier of technologies,
products and processes used for the production and replication of advanced
micro and nano structures. Obducat’s products and services are intended to
serve the demands of companies within the information storage,
semiconductor, printed circuit board, and sensor industries. Obducat’s
technologies include electron beam and nano imprint technology. Obducat has
offices in Sweden and the UK, with the head quarters located in Malmö,
Sweden. The Obducat shares are publicly traded on the Swedish NGM stock
exchange. Read more at www.obducat.com
Patrik Lundström, CEO, +46 (40) 36 21 00 oder +46 (703) 27 37 38
Henri Bergstrand, Chairman of the Board, +46 (40) 36 21 00 oder +46 (708)
88 72 45
(c)DGAP 16.08.2006
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